Современное состояние исследований механизма роста эпитаксиальных слоев кремния и соединений АIII BV из газовой фазы. Ч. 2. Механизм химических реакций при эпитаксии кремния из газовой фазы: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1968―1982 гг.) / С. С. Стрельченко, А. А. Матяш
| Вид документа: | Периодические издания |
|---|---|
| Автор: | Стрельченко, С. С. |
| Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника", 1984 |
| Физические характеристики: |
30, [1] с. : ил. ; 21 см
|
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Обзоры по электронной технике
Материалы ; 1984, вып. 8 |
Загрузка...