Технология субмикронной фотолитографии: современное состояние, перспективы развития и применения: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1967―1988 гг.) / Ю. С. Боков, А. Б. Невский, В. М. Фролов
| Автор: | Боков, Ю. С. |
|---|---|
| Другие авторы/ответственные: | Невский, А. Б., Фролов, В. М., Суслова, И. Н. |
| Вид документа: | Периодические издания |
| Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника", 1988 |
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Обзоры по электронной технике
Микроэлектроника ; 1988, вып. 6 |
Загрузка...