Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления. Ч. 1. Оборудование для осаждения слоев / С. Н. Шепелев, В. Ю. Васильев, В. П. Попов
| Автор: | Шепелев, С. Н. |
|---|---|
| Другие авторы/ответственные: | Васильев, В. Ю., Попов, В. П. |
| Вид документа: | Периодические издания |
| Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника", 1986 |
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Обзоры по электронной технике
Полупроводниковые приборы ; 1986, вып. 7 |
Загрузка...